特許

J-GLOBAL ID：200903095013428294

基板処理装置

発明者： 佐藤 誠一郎
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-174067
公開番号（公開出願番号）：特開平11-019605
出願日： 1997年06月30日
公開日（公表日）： 1999年01月26日
要約：

【要約】【課題】 純水と薬液とを混合させる混合部に供給する純水の供給量を一定に維持し、純水供給源側での圧力変動に起因する処理液の濃度変動を防止する。【解決手段】 耐圧密閉構造の薬液タンク7内の薬液を薬液供給路6へ設定圧力で加圧供給して混合部5へ供給するとともに、純水供給源17からの純水を純水供給路16を介して混合部5へ供給し、純水と薬液とを混合した処理液を処理液供給路3を介して処理槽1へ供給する。純水供給路16に純水圧力制御弁18を設け、混合部5へ供給される純水の圧力を空気圧の付与によって制御する。純水圧力センサ21によって検出された純水の圧力値に基づいて、純水コントローラ22から第2の電空変換器19に第2の制御信号を出力し、この第2の電空変換器19で、混合部5へ供給される純水の圧力が一定に維持されるように純水圧力制御弁18に付与される空気圧を制御する。

請求項（抜粋）：

純水と薬液とを混合して得られた処理液で基板の処理を行う基板処理部と、前記基板処理部に処理液供給路を介して接続され、純水と薬液とを混合させる混合部と、前記混合部に一端が接続され、他端が純水供給源に接続される純水供給路と、前記純水供給路に設けられ、前記混合部へ供給される純水の圧力を空気圧を付与することによって制御する純水圧力制御弁と、前記混合部と前記純水圧力制御弁との間に設けられ、前記混合部へ供給される純水の圧力値を検出する純水圧力検出手段と、前記純水圧力検出手段によって検出された純水の圧力値に基づいて、前記純水圧力制御弁に付与される空気圧を制御する純水制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

B08B 3/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

B08B 3/04 Z ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 T