特許
J-GLOBAL ID：200903095019547260
ドライ洗浄方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-347129
公開番号（公開出願番号）：特開平6-190269
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 ガラス、金属、半導体等の表面に付着した有機物、あるいは有機物に覆われたまたは接着された無機物の洗浄法の提供。【構成】 本発明は、大気圧近傍において、少なくとも酸素を含むガスを流し、放電発生用電極に高周波電圧を印加して放電を発生させ、その放電により生成される酸素イオン、その励起種等の活性種を含むガスにより被処理物表面の有機物を除去する。【効果】 真空を必要としないで、かつ水系も不用な高速ドライ洗浄方法、装置を提供できるだけでなく簡単で、かつ装置コストが低くてすむという効果を有する。さらには、移動しずらい被処理物に対して被処理物の使用現場での洗浄が可能であるばかりか、凹凸の激しい被処理物の洗浄にも対応できるという効果を有する。
請求項（抜粋）：
大気圧、あるいはその近傍圧力下において、少なくとも酸素を含むガス雰囲気中にて放電を生じさせ、その放電により生成された励起、イオン等の活性種と被処理物表面上の有機物とを化学反応せしめ、前記有機物を除去することを特徴とするドライ洗浄方法。
IPC (3件)：
B01J 19/08
, B08B 7/00
, H01L 21/304 341
