基板ビーム加工装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野河信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-083987
公開番号（公開出願番号）：特開平10-277772
出願日： 1997年04月02日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：

【要約】【課題】大面積の基板をステージに設置してビーム加工する際、基板の自重撓み/反りを矯正して基板全体の平面度を確保し、ビーム加工の信頼性と歩留まりを向上させる。【解決手段】基板上にビームを照射するビーム照射装置と、基板の周辺を所定の高さで支持する支持台とその同じ高さで基板の中央部を支持する複数の桟とを有するステージと、支持台に設けた複数の周辺部吸排気ポートと、ステージの中央部に設けた複数の中央部吸排気ポートと、前記各ポートの吸排気を行う複数のバルブと、周辺部吸排気ポート及び中央部吸排気ポートを減圧する吸排気ポンプと、周辺部吸排気ポート及び中央部吸排気ポートの真空度をそれぞれ検出する気圧検出部と、基板がステージに設置された際、前記基板が前記支持台に真空吸着した後に前記各桟に真空吸着するよう前記各バルブ及び前記吸排気ポンプを検出された真空度に基づいて制御する制御部とから構成される。

請求項（抜粋）：

基板上にビームを照射するビーム照射装置と、基板の周辺を所定の高さで支持する支持台とその同じ高さで基板の中央部を支持する複数の桟とを有するステージと、支持台に設けた複数の周辺部吸排気ポートと、ステージの中央部に設けた複数の中央部吸排気ポートと、前記各ポートの吸排気を行う複数のバルブと、周辺部吸排気ポート及び中央部吸排気ポートを減圧する吸排気ポンプと、周辺部吸排気ポート及び中央部吸排気ポートの真空度をそれぞれ検出する気圧検出部と、基板がステージに設置された際、前記基板が前記支持台に真空吸着した後に前記各桟に真空吸着するよう前記各バルブ及び前記吸排気ポンプを検出された真空度に基づいて制御する制御部とを備えてなる基板ビーム加工装置。

IPC (2件)：

B23K 26/10 , B23K 26/00

FI (2件)：

B23K 26/10 , B23K 26/00 H

引用特許：

出願人引用 (8件)

基体固定装置及び基体の固定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-129010 出願人：ソニー株式会社
特開2051-139632
特開昭62-067894

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審査官引用 (13件)

特開平3-013290
特開昭63-090386
特開平3-013290

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