基板の保管装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-016453
公開番号（公開出願番号）：特開平10-214802
出願日： 1997年01月30日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：

【要約】【課題】この発明は半導体ウエハなどの基板を乾燥させずに保管できる保管装置を提供することにある。【解決手段】カセット6に所定間隔で挿入保持された半導体ウエハUを液体Lに浸漬して保管する半導体ウエハの保管装置において、上記液体が収容される保管槽1と、上記カセット6を保持しこのカセットを上下駆動して上記保管槽に出し入れする上下駆動機構7と、上記保管槽の液体の液面とほぼ同じ高さで設けられ上記上下駆動機構によって上記カセットが下降駆動されこのカセットに保持された基板が上記保管槽の液体の液面に接触するときにその基板に向けて液体を噴射するノズル体25とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

カセットに所定間隔で挿入保持された基板を第1の液体に浸漬して保管する基板の保管装置において、上記第1の液体が収容される保管槽と、上記カセットを保持しこのカセットを上下駆動して上記保管槽に出し入れする駆動手段と、上記保管槽の第1の液体の液面とほぼ同じ高さで設けられ上記駆動手段によって上記カセットが下降駆動されこのカセットに保持された基板が上記保管槽の第1の液体の液面に接触するときにその基板に向けて第2の液体を噴射するノズル体とを具備したことを特徴とする基板の保管装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 321 , H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/304 321 A , H01L 21/68 V

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