特許
J-GLOBAL ID:200903095026707419

5-イソキサゾリジノン類の新規製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐伯 憲生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-019450
公開番号(公開出願番号):特開2003-221385
出願日: 2002年01月29日
公開日(公表日): 2003年08月05日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、短工程で立体選択性が高く、且つ収率の高い5-イソキサゾリジノン類の製造法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、イノラートアニオンとニトロンとを反応させ、次いで、得られた生成物をプロトン源と反応させるか、又は求電子剤と反応させることを特徴とする、5-イソキサゾリジノン類の製造法に関する。また、本発明は、イノラートアニオンとニトロンとを反応させ、得られた生成物を0°C乃至室温でt-ブタノールで処理することを特徴とする、5-イソキサゾリジノン類のアンチ体の製造法に関する。
請求項(抜粋):
イノラートアニオンとニトロンとを反応させ、次いで、得られた生成物をプロトン源と反応させるか、又は求電子剤と反応させることを特徴とする、5-イソキサゾリジノン類の製造法。
IPC (5件):
C07D261/04 ,  C07D413/04 ,  C07D498/04 105 ,  C07M 7:00 ,  C07M 9:00
FI (5件):
C07D261/04 ,  C07D413/04 ,  C07D498/04 105 ,  C07M 7:00 ,  C07M 9:00
Fターム (24件):
4C056AA01 ,  4C056AB01 ,  4C056AC01 ,  4C056AD01 ,  4C056AE02 ,  4C056AF01 ,  4C056FA04 ,  4C056FB05 ,  4C056FC02 ,  4C063AA01 ,  4C063BB01 ,  4C063CC81 ,  4C063DD51 ,  4C063EE05 ,  4C072AA01 ,  4C072AA06 ,  4C072BB02 ,  4C072BB06 ,  4C072CC01 ,  4C072CC11 ,  4C072EE02 ,  4C072FF07 ,  4C072GG07 ,  4C072JJ02
引用文献:
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