特許
J-GLOBAL ID:200903095026707419
5-イソキサゾリジノン類の新規製造法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐伯 憲生
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-019450
公開番号(公開出願番号):特開2003-221385
出願日: 2002年01月29日
公開日(公表日): 2003年08月05日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、短工程で立体選択性が高く、且つ収率の高い5-イソキサゾリジノン類の製造法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明は、イノラートアニオンとニトロンとを反応させ、次いで、得られた生成物をプロトン源と反応させるか、又は求電子剤と反応させることを特徴とする、5-イソキサゾリジノン類の製造法に関する。また、本発明は、イノラートアニオンとニトロンとを反応させ、得られた生成物を0°C乃至室温でt-ブタノールで処理することを特徴とする、5-イソキサゾリジノン類のアンチ体の製造法に関する。
請求項(抜粋):
イノラートアニオンとニトロンとを反応させ、次いで、得られた生成物をプロトン源と反応させるか、又は求電子剤と反応させることを特徴とする、5-イソキサゾリジノン類の製造法。
IPC (5件):
C07D261/04
, C07D413/04
, C07D498/04 105
, C07M 7:00
, C07M 9:00
FI (5件):
C07D261/04
, C07D413/04
, C07D498/04 105
, C07M 7:00
, C07M 9:00
Fターム (24件):
4C056AA01
, 4C056AB01
, 4C056AC01
, 4C056AD01
, 4C056AE02
, 4C056AF01
, 4C056FA04
, 4C056FB05
, 4C056FC02
, 4C063AA01
, 4C063BB01
, 4C063CC81
, 4C063DD51
, 4C063EE05
, 4C072AA01
, 4C072AA06
, 4C072BB02
, 4C072BB06
, 4C072CC01
, 4C072CC11
, 4C072EE02
, 4C072FF07
, 4C072GG07
, 4C072JJ02
引用文献:
前のページに戻る