特許
J-GLOBAL ID：200903095056068615
空間光変調素子及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-094844
公開番号（公開出願番号）：特開平7-301821
出願日： 1994年05月09日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 遮光能力が高く、高輝度で高密度な情報を表示する優れた空間光変調素子およびその製造方法を提供する。【構成】 液晶層11を配向させる配向膜12と、微小形状に分割された複数の整流性を有する光導電層6および金属反射膜8とを少なくとも備え、微小形状に分割された金属反射膜8の表面積が、光導電層6の最小の断面積よりも大とした構成である。また、本発明の製造方法は、光導電層に金属反射膜を成膜、微小形状に分割した後、光導電層の一部をエッチングし、微小形状に分割された画素を形成する工程を含み、微小形状に分割された金属反射膜間の溝部における金属反射膜の端部から金属反射膜に接する光導電層の端部までの距離と、溝部の深さの比を任意に変化させうる反応性イオンエッチング工程を有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
液晶層と、前記液晶層を配向させる配向膜と、微小形状に分割された複数の整流性を有する光導電層および金属反射膜とを少なくとも備え、微小形状に分割された前記金属反射膜の表面積が、前記光導電層の最小の断面積よりも大であることを特徴とする空間光変調素子。
IPC (2件)：
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