特許
J-GLOBAL ID：200903095086117645
同時脱硫脱硝方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青麻 昌二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-351572
公開番号（公開出願番号）：特開平6-170165
出願日： 1992年12月09日
公開日（公表日）： 1994年06月21日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、流動層を使用してガス中の硫黄酸化物及び窒素酸化物を同時に且つ効率的に除去できる方法を提供することを目的とする。【構成】 本発明に係る同時脱硫脱硝方法は、粗い粒子の還元脱硝触媒と細かい粒子の脱硫剤とよりなる流動層中に硫黄酸化物及び窒素酸化物を含有するガスを流動化ガスとして還元剤と共に導入し、粗い粒子が実質的に流動層中に滞留し細かい粒子が制御された平均滞留時間をもって流動層外に排出される流動条件下でガスと粒子を接触させ、窒素酸化物を窒素に還元し硫黄酸化物を脱硫剤に捕捉させた後、硫黄酸化物及び窒素酸化物が除去されたガスと硫黄酸化物を捕捉した細かい粒子の脱硫剤を流動層より排出すると共に新たな細かい粒子の脱硫剤を流動層に補給することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
粗い粒子の還元脱硝触媒と細かい粒子の脱硫剤とよりなる流動層中に硫黄酸化物及び窒素酸化物を含有するガスを流動化ガスとして還元剤と共に導入し、粗い粒子が実質的に流動層中に滞留し細かい粒子が制御された平均滞留時間をもって流動層外に排出される流動条件下でガスと粒子を接触させ、窒素酸化物を窒素に還元し硫黄酸化物を脱硫剤に捕捉させた後、硫黄酸化物及び窒素酸化物が除去されたガスと硫黄酸化物を捕捉した細かい粒子の脱硫剤を流動層より排出すると共に新たな細かい粒子の脱硫剤を流動層に補給することを特徴とする同時脱硫脱硝方法。
IPC (11件)：
B01D 53/36 101
, B01D 53/36 ZAB
, B01D 53/36 102
, B01D 53/12 ZAB
, B01D 53/14 ZAB
, B01D 53/34 ZAB
, B01D 53/34 132
, B01J 23/22 ZAB
, B01J 23/72 ZAB
, B01J 23/74 ZAB
, B01J 23/74 301
