特許

J-GLOBAL ID：200903095087777355

高親和性細菌のスクリーニング方法及びフェノール高親和性細菌

発明者： 渡辺 一哉 ,  檜野 早苗 ,  小野寺 康
出願人/特許権者： 東燃株式会社 ,  財団法人石油産業活性化センター
代理人 (1件)： 久保田 耕平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-220246
公開番号（公開出願番号）：特開平7-067619
出願日： 1993年09月03日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：

【要約】【目的】 基質である炭素化合物に対して親和性の高い菌を獲得するためのスクリーニング法を提供すること。【構成】 基質を唯一の炭素源とする培地で連続培養を行い、希釈率を一定としながら供給培地中の基質濃度を徐々に上げ、分解能の高い菌株を選択することからなる方法、及び該方法により獲得される細菌。【効果】 低濃度領域でも十分な分解活性を有する、親和性の高い菌株が得られた。

請求項（抜粋）：

細菌混合物を連続培養することによって基質である炭素化合物を生分解する能力が高い菌をスクリーニングする方法であって、供給培地中の唯一の炭素源としての該炭素化合物の濃度を徐々に上昇させ、供給培地中の該炭素化合物濃度を一定の値まで到達させる工程を含むことを特徴とする前記スクリーニング方法。

IPC (5件)：

C12N 1/00 ,  C02F 1/58 ZAB ,  C02F 3/34 ZAB ,  C12N 1/20 ,  C12R 1:05