特許

J-GLOBAL ID：200903095099148248

ポジ型レジスト像の製造法

発明者： 加藤 幸治 ,  橋本 政弘 ,  橋本 通晰
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-294154
公開番号（公開出願番号）：特開平11-133609
出願日： 1997年10月27日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 パタン潜像形成部に発生させた酸を触媒とする反応により、照射部のアルカリ現像液に対する溶解性を変化させ、パタ-ンを現出させるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物を用いてできるレジスト像の製造方法を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)一般式(I)及び一般式(II)で表される繰り返し単位を有し、側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するビニル重合体を含有するポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物を基板に塗布後、放射線により露光し、露光部を現像除去してポジ型レジストパタンを形成、次いでパタンを放射線により全面露光するポジ型レジスト像の製造法。(式中、a〜bは独立に1〜3の整数、(a+b)又は(c+d)は5以下、R1又はR2は水素又は炭素数1〜6のアルキル基等、Aは酸分解性基を示す。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ水溶液可溶性樹脂、(b)活性化学線照射により酸を生じる化合物、(c)一般式(I)【化1】(一般式(I)中、a及びbはそれぞれ独立に1〜3の整数を表し、a+bは5以下であり、R1は水素または炭素数1〜6のアルキル基、アラルキル基またはアルコキシ基を示し、Aは酸分解性基を示す)で表される繰り返し単位及び一般式(II)【化2】(一般式(II)中、c及びdはそれぞれ独立に1〜3の整数を表し、c+dは5以下であり、R2は水素または炭素数1〜6のアルキル基、アラルキル基またはアルコキシ基を示す)で表される繰り返し単位を有し、側鎖に酸触媒反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増加される酸分解性基を有するビニル重合体を含有してなるポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物を基板に塗布後、放射線によりパタン状に露光し、次いで、露光部を現像除去してポジ型レジストパタンを形成し、次いで形成されたポジ型レジストパタンを放射線により全面露光することを特徴とするポジ型レジスト像の製造法。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/30 502 R