特許

J-GLOBAL ID：200903095103436008

露光装置及び露光方法

発明者： 鈴木 一明 ,  鈴木 博之 ,  小沢 進
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-253603
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263332
出願日： 1987年02月26日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【目的】 パターンの継ぎ精度を向上させた画面合成露光を行う。【構成】 パターンの継ぎ合わせの精度を重視するか重ね合わせの精度を重視するかを選択し、この選択結果に応じて感光基板上に形成されたパターン領域(SA1 )の位置(Ca1 )を求める。求めたパターン領域の位置に応じて新たに露光するパターン(SB2 )の露光位置(Cb2 )を決定し、露光する。

請求項（抜粋）：

複数のマスクのパターンの夫々を投影光学系を介して感光基板上で互いに継ぎ合わせるとともに重ね合わせて露光する露光装置において、前記複数のマスクのうち少なくとも1つを載置し、前記投影光学系に対して選択的に位置決めするマスクステージと、前記位置決めされたマスクの位置を検出する第1の位置検出手段と、前記感光基板を載置して該感光基板上の所定の領域を前記投影光学系に対して位置決めする基板ステージと、前記所定の領域の位置を検出する第2の位置検出手段と、前記所定の領域の前記感光基板上における位置に応じて前記検出する位置を決定する制御手段と、前記制御手段の決定に基づき、前記継ぎ合わせる精度を重視するか前記重ね合わせる精度を重視するかに応じて、前記第1及び第2の位置検出手段による前記マスクの位置及び所定の領域の位置の検出のシーケンスを選択する選択手段とを備え、前記選択手段の選択に応じて検出した前記マスクの位置及び所定の領域の位置に基づいて前記マスクステージ及び前記基板ステージを位置決めすることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00