特許

J-GLOBAL ID：200903095111084455

ガス系の制御方法及びその装置

発明者： 小美野 光明 ,  内澤 修 ,  千葉 康広
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  株式会社本山製作所
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-213667
公開番号（公開出願番号）：特開平11-154026
出願日： 1998年07月29日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】 使用するガスの流れの有無による流量負荷等の各状態に応じてガスの温度又は圧力等を制御すること。【解決手段】 処理室6内に所定のガスを供給する供給管路2a〜2dに介設されてガスの流れの有無による流量負荷を検知する流量センサ41,42と、ガスの流れの有無による流量負荷に応じた制御定数を予め記憶するCPU40とを設ける。流量センサ41,42及び又はIPA供給ポンプ43によってガスの流れの有無による流量負荷及び又はIPAの流れを検知し、その検知信号をCPU40に伝達すると共に、CPU40からの制御信号に基づいてカートリッジヒータ14,内筒及び外筒ヒータ25,26及び保温ヒータ62を制御する。

請求項（抜粋）：

所定のガスの流れの有無による流量負荷に応じた制御定数を予め記憶しておき、上記ガスの流れの有無による上記流量負荷の検知信号に基づき、上記制御定数を選択して上記ガスの温度を制御することを特徴とするガス系の制御方法。

IPC (9件)：

G05D 23/00 ,  G05B 13/02 ,  G05D 11/16 ,  G05D 16/20 ,  G05D 23/19 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 651 ,  H01L 21/3065

FI (9件)：

G05D 23/00 B ,  G05B 13/02 B ,  G05D 11/16 ,  G05D 16/20 A ,  G05D 23/19 E ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/304 645 B ,  H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/302 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

• リフロー装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-232703   出願人：松下電器産業株式会社
• プロセスの制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-098273   出願人：東京瓦斯株式会社, 山武ハネウエル株式会社
• 特開平2-039309