チタンスパッタリングターゲット

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-038418
公開番号（公開出願番号）：特開平5-214521
出願日： 1992年01月30日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【構成】加工集合組織又は再結晶集合組織が(0002)±α°(α=0〜90)で表されるチタンから構成されたスパッタリング用ターゲット。【効果】この発明のチタンターゲット材を用いてスパッタリングによりチタン膜を成膜する際、従来のターゲット材を用いた場合に比較して成膜速度が早く、生産性の向上が期待できる。

請求項（抜粋）：