特許

J-GLOBAL ID：200903095131422160

光吸収性反射防止体とその製造方法

発明者： 尾山 卓司 ,  片山 佳人
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-108439
公開番号（公開出願番号）：特開2000-356706
出願日： 1995年12月13日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：

【要約】【課題】適度な光吸収率と反射防止性能とを有し、耐熱性にも優れる光吸収性反射防止体を低コストで生産する。【解決手段】基板10上に基板10側から、チタンの窒化物を主成分とする光吸収膜11と、シリカ膜13とを順に形成してなる光吸収性反射防止体において、光吸収膜11は、チタンに対する原子割合が0.5以下の酸素を含む膜であって膜厚が5〜25nmであり、かつ、シリカ膜13の膜厚が70〜110nmである光吸収性反射防止体とその製造方法。

請求項（抜粋）：

基体上に基体側から、光吸収膜とシリカ膜とをこの順に形成してなる、シリカ膜側からの入射光の反射を低減させる光吸収性反射防止体において、光吸収膜の幾何学的膜厚が5〜25nmであり、かつ、シリカ膜の幾何学的膜厚が70〜110nmであることを特徴とする光吸収性反射防止体。

IPC (6件)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  C03C 17/34 ,  G09F 9/00 309 ,  G09F 9/00 313

FI (6件)：

G02B 1/10 A ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  C03C 17/34 Z ,  G09F 9/00 309 A ,  G09F 9/00 313