特許

J-GLOBAL ID：200903095140313269

縦型炉

発明者： 保坂 英二 ,  吉田 久志 ,  池田 和人
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 三好 祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-016927
公開番号（公開出願番号）：特開平6-204156
出願日： 1993年01月07日
公開日（公表日）： 1994年07月22日
要約：

【要約】【目的】半導体製造装置の縦型炉に於いて、急冷時に反応管上部での急冷特性を改善し、降温時に炉の上下で降温特性に差が起きにくい様にする。【構成】反応管1と該反応管を囲繞するヒータ3との間に形成される空間16,17を閉塞し、該空間に冷却媒体導入ノズル14,15を挿入し、該冷却媒体導入ノズルの先端を前記空間の上部所要位置に開口させると共に前記ヒータの下部に排気装置を接続し、前記冷却媒体導入ノズルより冷却媒体を導入し、前記排気装置より冷却媒体を排気し、冷却媒体を下降させつつ縦型炉を冷却する。

請求項（抜粋）：

反応管と該反応管を囲繞するヒータとの間に形成される空間を閉塞し、該空間に冷却媒体導入ノズルを挿入し、該冷却媒体導入ノズルの先端を前記空間の上部所要位置に開口させると共に前記ヒータの下部に排気装置を接続したことを特徴とする縦型炉。