特許

J-GLOBAL ID：200903095147088635

光反射性防止材料及びパターン形成方法

発明者： 畠山 潤 ,  梅村 光雄 ,  木下 博文
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-345213
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181685
出願日： 1993年12月21日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、簡便で生産性が高く、再現性が良い上、環境破壊の問題がなく実用的にレジストパターンを形成する。【構成】 下記一般式(1)〜(4)で表されるフッ素化アルキルポリエーテル化合物と水溶性アミノ化合物との塩の1種又は2種以上を含むことを特徴とする光反射性材料。(式中p,q,rはそれぞれ0〜10の整数で、m及びnは1〜10の整数であり、Rは水溶性アミノ化合物である。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)〜(4)で表されるフッ素化アルキルポリエーテル化合物と水溶性アミノ化合物との塩の1種又は2種以上を含むことを特徴とする光反射性防止材料。【化1】(式中p,q,rはそれぞれ0〜10の整数で、m及びnは1〜10の整数であり、Rは水溶性アミノ化合物である。)

IPC (4件)：

G03F 7/11 503 ,  C09D171/02 PLQ ,  H01L 21/027 ,  C09K 3/00