特許
J-GLOBAL ID:200903095154059632
酸化ニッケル粉末の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鴨田 朝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-203779
公開番号(公開出願番号):特開2001-032002
出願日: 1999年07月16日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】【課題】 硫酸ニッケルを酸化雰囲気下で焙焼して酸化ニッケル粉末を製造する方法において、平均粒径が制御され、かつ硫黄濃度が50重量ppm以下に低い酸化ニッケル粉末の製造方法を提供する。【解決手段】 上記酸化ニッケル粉末製造方法において、950°C以上、1000°C未満を焙焼温度とする第1段焙焼、および1000〜1200°Cを焙焼温度とする第2段焙焼を行うことを特徴とする。
請求項(抜粋):
硫酸ニッケルを酸化雰囲気下で焙焼して酸化ニッケル粉末を製造する方法において、950°C以上、1000°C未満を焙焼温度とする第1段焙焼、および1000〜1200°Cを焙焼温度とする第2段焙焼から該焙焼がなることを特徴とする酸化ニッケル粉末の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
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