特許
J-GLOBAL ID：200903095155781463
半導体製造用のガスシリンダ冷却装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-079616
公開番号（公開出願番号）：特開平6-294566
出願日： 1993年04月06日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：
【要約】【目的】冷却装置のコストを著しく抑制し、しかも、繁雑なメンテナンス作業を軽減し得る半導体製造用のガスシリンダ冷却装置を提供する。【構成】液化ガスを貯えるシリンダ2に、冷却ジャケット5Aを囲繞状態で嵌入する。そして、冷却ジャケット5Aに冷却用の圧縮空気を噴射するとともに、冷却ジャケット5Aの内部における螺旋状の流通パイプに該空気を流通させてシリンダ2を下部から上部へと冷却し、その後、該空気を外部に排出し、シリンダ2の温度<供給ラインの周囲温度の関係にする。こうすれば、シリンダ2、半導体製造装置、又は、供給ラインの周囲の温度の相違に伴い、供給ライン内で半導体製造用ガスが渋滞するのを防止でき、冷却装置のコストを大幅に抑制できるとともに、繁雑なメンテナンス作業の作業負担を軽減し得る。
請求項（抜粋）：
半導体の製造に使用され室温では殆ど蒸気圧値が大気圧値に近似する半導体製造用ガスと、この半導体製造用ガスを充填したシリンダと、このシリンダから半導体製造設備に該半導体製造用ガスを供給する供給ラインと、少なくとも該シリンダの一部を囲む冷却壁と、この冷却壁を流通して該シリンダ内の半導体製造用ガスを冷却する冷却空気とを備え、シリンダ、半導体製造設備、又は、供給ラインの周囲の温度の相違に伴う供給ライン内における半導体製造用ガスの供給の渋滞を防止することを特徴とする半導体製造用のガスシリンダ冷却装置。
IPC (3件)：
F25D 9/00
, F25D 1/00
, H01L 21/302
