特許

J-GLOBAL ID：200903095175245312

ガス処理すべき水性液の滅菌方法並びに液体のガス処理と滅菌照射を同時に行うための装置

発明者： ミヒャエル ゼル ,  アンドレアス マン
出願人/特許権者： ゾルファイ ウムヴェルトヒエミー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-163471
公開番号（公開出願番号）：特開平6-086991
出願日： 1993年07月01日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【目的】 ガス処理すべき水性液の滅菌方法及び装置を提供する。【構成】 該方法は、滅菌照射をガス処理の後に行う、又はガス処理と滅菌照射を同時に行うことよりなる。

請求項（抜粋）：

ガス処理すべき水性液を、滅菌性放射線を用いて滅菌する方法において、滅菌照射をガス処理の後に行うか又はガス処理と滅菌照射を同時に行うことを特徴とする、ガス処理すべき水性液の滅菌方法。

IPC (4件)：

C02F 1/78 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/70 ,  C02F 9/00