特許

J-GLOBAL ID：200903095192970705

低誘電率材料用研磨用スラリ-としての水系金属酸化物ゾル

発明者： ダニエル・エル・タワリー ,  マイケル・エイ・フュリー
出願人/特許権者： アライドシグナル・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-165057
公開番号（公開出願番号）：特開2000-080352
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 大規模集積半導体回路などの導電層を被覆する絶縁層である低誘電率材料から成る層を平面化処理するために用いられる、化学・機械的研磨処理(CMP処理)に有用な水系金属酸化物ゾルスラリーを提供する。【解決手段】 水系金属酸化物ゾルスラリーは、コロイド状懸濁液中で生成される、ZrO2、CeO2などの化学的に活性な金属酸化物ゾルを用いて溶液中で乾燥工程なしに直接調製される。この酸化物ゾルは実質的に非脱水型で、その粒子は実質的に球状構造で、形状安定性がよく、時間が経過しても形状が変化しない。このゾル粒子は機械的に軟らかく、強く水和しており、柔軟な重合体または多孔性の誘電性薄膜を研磨する場合でも表面の損傷が少ない。

請求項（抜粋）：

コロイド状の懸濁液または分散液を形成している水系金属酸化物ゾルの形をした多数の研磨用粒子にして、該研磨用金属酸化物ゾル粒子が非脱水型の化学的に活性な金属酸化物より実質的に成る群から選ばれたものである該研磨用粒子を含んでなる、低誘電率材料、もしくは有機材料を有意な割合で含んでいる材料を研磨するための研磨用組成物。

IPC (6件)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  C01B 33/141 ,  H01L 21/304 621 ,  H01L 21/304 622

FI (6件)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 C ,  B24B 37/00 F ,  C01B 33/141 ,  H01L 21/304 621 D ,  H01L 21/304 622 D