洗浄剤

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-301961
公開番号（公開出願番号）：特開平7-150195
出願日： 1993年12月01日
公開日（公表日）： 1995年06月13日
要約：

【要約】【目的】毒性の問題がなく洗浄力が優れ、排水処理も容易で、かつ、引火点も高く、オゾン層破壊の恐れが全くない洗浄剤を提供するものである。【構成】 (a)次の一般式(1)で表されるグリコールエーテル系化合物70〜95重量%及び(b)一般式(2)で表されるグリコールエーテル系化合物5〜30重量%からなる洗浄剤。【化1】R3 O(Cp H2pO)q H (2)(式中、R3 は炭素数1〜5のアルキル基を示し、pは3〜4の整数、qは1〜3の整数を示す)本発明は、汚れた固体表面、特に精密機械部品、光学機械部品等の加工時に使用される加工油類やワックス、電機電子部品のはんだ付け時に使用されるフラックスやはんだペーストを除去するのに好適な洗浄剤に関するものである。

請求項（抜粋）：

(a)次の一般式(1)で表されるグリコールエーテル系化合物70〜95重量%及び(b)一般式(2)で表されるグリコールエーテル系化合物5〜30重量%からなる洗浄剤。【化1】R3 O(Cp H2pO)q H (2)(式中、R3 は炭素数1〜5のアルキル基を示し、pは3〜4の整数、qは1〜3の整数を示す)

IPC (5件)：

C11D 7/26 ZAB , B23K 1/00 , C11D 7/50 , C23G 5/032 , H05K 3/26

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