特許

J-GLOBAL ID：200903095225875177

紫外レーザーによる有機多層膜製造方法

発明者： 井村 達哉 ,  矢部 明 ,  新納 弘之 ,  大花 継頼
出願人/特許権者： 川崎重工業株式会社 ,  工業技術院長
代理人 (2件)： 塩出 真一 ,  塩出 真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-124946
公開番号（公開出願番号）：特開平6-316757
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】 1回の紫外レーザーの照射のみで基板表面に有機多層膜を形成する方法を提供する。【構成】 基板上に有機モノマー分子を蒸着させ、この蒸着層に紫外レーザーを照射することにより重合させる工程と、ついでレーザーを照射しない暗反応下において、この蒸着層表面に有機化合物を導入し、該有機化合物を蒸着層表面へ固定化する工程とを上記の1回の紫外レーザー照射により行い、有機多層膜を製造する。

請求項（抜粋）：

基板上に有機モノマー分子を蒸着させ、この蒸着層に紫外レーザーを照射することにより重合させる工程と、ついでレーザーを照射しない暗反応下において、この蒸着分子が重合した膜表面に有機化合物を導入し、該有機化合物を表面へ固定化する工程とを1回の紫外レーザー照射により行い、有機多層膜を作製することを特徴とする紫外レーザーによる有機多層膜製造方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-235463
  
• 特開昭62-138529