特許
J-GLOBAL ID：200903095230416954
ウエツト処理装置及びその制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-291459
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129269
出願日： 1991年11月07日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、窒素ガスの使用量を激減させ、ランニングコストを低減し、さらに、窒素ガス雰囲気を長時間安定して維持することができるウェット処理装置及びその制御方法を得ることを目的とする。【構成】 ウェット処理装置1Aのチャンバ2内には、薬液10のミストにより汚染された汚染窒素ガス18中の汚染物を除去するための排ガス処理部20が設けられている。いま、汚染窒素ガス18中の汚染物が酸ミストである場合には、排ガス処理部20は、汚染窒素ガス18にpH調整液を供給するpH調整液供給ノズル22、気液接触装置であるデミスター23、24、アルカリ水溶液例えばNaOH水溶液を供給するためのNaOH水溶液供給ノズル25等が設けられている。
請求項（抜粋）：
チャンバと、このチャンバ内に配置され、ウェット処理を行うウェット処理手段と、このウェット処理手段によってウェット処理作業が行われる作業空間と、上記チャンバ内に窒素ガスを導入する窒素ガス供給手段と、導入された窒素ガスを上記チャンバ内で循環させる窒素ガス循環手段と、及び上記チャンバ内を循環する窒素ガス中の汚染物を除去し、窒素ガスを清浄にする窒素ガス清浄化手段とを備えたことを特徴とするウェット処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B01D 53/18
, H01L 21/306
