特許

J-GLOBAL ID：200903095233648546

ガス処理装置及びガス処理方法

発明者： 田村 順一 ,  西口 敏司 ,  青柳 広美
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-073795
公開番号（公開出願番号）：特開2002-273156
出願日： 2001年03月15日
公開日（公表日）： 2002年09月24日
要約：

【要約】【課題】処理効率を向上させることが可能となるガス処理装置及びガス処理方法、特に揮発性有害物質を含有するガスを効率良く、無害ガスに分解することが可能なガス処理装置及びガス処理方法を提供する。【解決手段】筒型外部電極と筒型内部電極を備え、該電極間に気体が流れることが可能な構造を有する強誘電体を充填した筒型密閉反応装置を構成し、前記電極間に放電を発生させて該電極間に存在する気体をプラズマ化して分解処理するガス処理装置であって、前記筒型内部電極を複数の電極で構成し、該複数の筒型内部電極を前記筒型外部電極内に該筒型外部電極と同軸に年輪状に配して前記筒型密閉反応装置内を細分化する。

請求項（抜粋）：

筒型外部電極と筒型内部電極を備え、該電極間に気体が流れることが可能な構造を有する強誘電体を充填した筒型密閉反応装置を構成し、前記電極間に放電を発生させて該電極間に存在する気体をプラズマ化して分解処理するガス処理装置であって、前記筒型内部電極を複数の電極で構成し、該複数の筒型内部電極を前記筒型外部電極内に該筒型外部電極と同軸に年輪状に配して前記筒型密閉反応装置内を細分化したことを特徴とするガス処理装置。

IPC (4件)：

B01D 53/44 ,  B01D 53/32 ZAB ,  B01J 19/08 ,  H05H 1/42

FI (4件)：

B01D 53/32 ZAB ,  B01J 19/08 E ,  H05H 1/42 ,  B01D 53/34 117 Z

Fターム (20件)：

4D002AA33 ,  4D002AA40 ,  4D002AB03 ,  4D002BA07 ,  4D002CA07 ,  4D002HA03 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BD05 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075DA01 ,  4G075EA02 ,  4G075EB27 ,  4G075EB46 ,  4G075EC21 ,  4G075EE02 ,  4G075FB04 ,  4G075FC15