特許

J-GLOBAL ID：200903095235951475

汚染物質の除去方法

発明者： 後藤 顕 ,  渡辺 隆
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-221179
公開番号（公開出願番号）：特開平5-042385
出願日： 1991年08月07日
公開日（公表日）： 1993年02月23日
要約：

【要約】【目的】 汚染物質の付着した基材の汚染物質の除去時に、基材にダメージを与えることなく汚染物質を除去する方法を実現する。【構成】 汚染物質の付着した基材にレーザー光を照射して該汚染物質を除去することを特徴とする汚染物質の除去方法であり、基材6には吸収されず、該基材に付着した汚染物質7にのみ吸収される選択吸収性を有する波長のレーザー光を照射するため、レーザー光を発生する手段1と、倍波を発生するSHG4と、基本波を除去するオプティカルフィルター5とを有する除去装置であり、基材6を傷めず、汚染物質7のみを除去することができる。

請求項（抜粋）：

汚染物質の付着した基材にレーザー光を照射して該汚染物質を除去することを特徴とする汚染物質の除去方法。