特許

J-GLOBAL ID：200903095235980025

ポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物、これを用いた電着塗装浴、レジストパターンの製造法、プリント回路板の製造法及びプリント回路板

発明者： 立木 繁雄 ,  廣 昌彦 ,  赤堀 聡彦 ,  加藤 琢郎
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-011190
公開番号（公開出願番号）：特開平5-117557
出願日： 1992年01月24日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：

【要約】【目的】 現像残りのない良好なレジストパターンを形成できるポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物を提供すること。【構成】 下記一般式(I)及び/又は(II)で表わされる化合物【化1】(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基又はアルコキシ基を示し、R2は水素原子、水酸基、アルキル基、エステル基、フェニル基又は-X-R3(ただし、Xはカルボキシル基で置換されていてもよいアルキレン基、シクロアルキレン基又はアルキレンエーテル基を示し、R3は水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基又はジアルキルアミノ基を示す)を示し、nは1〜3の整数(ただし、R2中にカルボキシル基を有する場合には0でもよい)を示す)【化2】(式中、R1は一般式(I)のR1と同じであり、R4は水素原子、アルキル基又はフェニル基を示し、nは1〜3の整数を示す)を含有してなるポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)及び/又は(II)で表わされる化合物【化1】(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基又はアルコキシ基を示し、R2は水素原子、水酸基、アルキル基、エステル基、フェニル基又は-X-R3(ただし、Xはカルボキシル基で置換されていてもよいアルキレン基、シクロアルキレン基又はアルキレンエーテル基を示し、R3は水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基又はジアルキルアミノ基を示す)を示し、nは1〜3の整数(ただし、R2中にカルボキシル基を有する場合には0でもよい)を示す)【化2】(式中、R1は一般式(I)のR1と同じであり、R4は水素原子、アルキル基又はフェニル基を示し、nは1〜3の整数を示す)を含有してなるポジ型感光性アニオン電着塗料樹脂組成物。

IPC (7件)：

C09D 5/44 PRN ,  C23F 1/00 102 ,  C25D 13/06 ,  C25D 13/10 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 ,  H05K 3/06