特許

J-GLOBAL ID：200903095250015514

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

発明者： 柳原 仁 ,  柴山 優子 ,  小西 捷雄 ,  長友 浩之 ,  斉藤 正勝 ,  後藤 良
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立金属株式会社
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-135514
公開番号（公開出願番号）：特開平8-007222
出願日： 1994年06月17日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：

【要約】【目的】コイルの高密度高アスペクト比を実現した薄膜磁気ヘッドを提供する。【構成】上部3及び下部2の磁気コアの間に導体コイル5を挾設した薄膜磁気ヘッドであって、絶縁層4を形成する際に、塗布型絶縁材10を塗布し、コイル端部の外側傾斜角θを疑似的に緩和させた後、スパッタ或いは真空蒸着により絶縁層11を形成する。【効果】スパッタ或いは真空蒸着による絶縁層内に発生する亀裂及び空洞は、コイル端部の外側傾斜角θに影響され、これを疑似的に緩和させたことにより、亀裂及び空洞を発生させずに、高密度高アスペクト比なコイルが得られる。

請求項（抜粋）：

軟磁性薄膜よりなる上部磁気コア及び下部磁気コアの間に絶縁層を介して導体コイルを挾設した薄膜磁気ヘッドであって、前記コイル間に生じる隙間に形成される絶縁層が、塗布型絶縁材から成る第1の絶縁層と、その上に積層されたスパッタと真空蒸着の何れかによる薄膜形成型無機絶縁材から成る第2の絶縁層の少なくとも2重層で構成して成る薄膜磁気ヘッド。