特許
J-GLOBAL ID：200903095260969591
磁性薄膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-004192
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190327
出願日： 1992年01月13日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：
【要約】【目的】 低保磁力、高飽和磁束密度及び高耐食性を有する磁性薄膜を、量産性に優れた湿式めっき法により実現する。【構成】 めっき法により成膜されるCo-Fe-Rh合金膜においてRhの含有量が1〜8重量%であり、さらにSの含有量が500〜2000ppmである軟磁性薄膜。極めて耐食性が良く、かつ軟磁気特性も優れている。
請求項（抜粋）：
Co、FeおよびRhを主成分とし、Rhの含有量が1〜8重量%でありSの含有量が500〜2000ppmであることを特徴とする磁性めっき薄膜。
IPC (3件)：
H01F 10/16
, H01F 10/30
, H01F 41/26
