寸法検査方法及びその装置並びにマスクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-079402
公開番号（公開出願番号）：特開2003-279319
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】被検査パターンの基準パターンに対する寸法誤差又は位置ずれを高精度に測定して信頼性の高い寸法検査を行なう。【解決手段】設計パターンの幅寸法Rdと回路パターンPの幅寸法Sdとを計測し、回路パターンPの幅寸法Sdの設計パターンの幅寸法Rdに対する寸法誤差err、及びX方向、Y方向の各位置ずれx、yをそれぞれ集計し、この集計結果のうち所定の度数に達しない集計結果を除去し、この集計結果の除去された集計結果に基づいて半導体ウエハの回路パターンの設計データ12、又は露光機1における露光処理条件を補正する補正値を求める。

請求項（抜粋）：

基準パターンの寸法と被検査パターンの寸法とを計測し、前記被検査パターン寸法の前記基準パターン寸法に対する寸法誤差に基づいて前記被検査パターン形状の検査を行なう寸法検査方法において、前記寸法誤差を集計する工程と、前記集計の結果のうち所定の度数に達しない前記集計結果を除去する工程と、前記所定の度数に達しない前記集計結果の除去された前記集計結果に基づいて前記基準パターン又は前記被検査パターンのいずれか一方又は両方の補正値を求める工程と、を有することを特徴とする寸法検査方法。

IPC (6件)：

G01B 11/02 , G01B 11/00 , G01N 21/956 , G03F 1/08 , G06T 1/00 305 , G06T 7/60 150

FI (6件)：

G01B 11/02 H , G01B 11/00 H , G01N 21/956 A , G03F 1/08 S , G06T 1/00 305 A , G06T 7/60 150 B

Fターム (52件)：

2F065AA17 , 2F065AA20 , 2F065AA22 , 2F065BB02 , 2F065CC18 , 2F065FF04 , 2F065FF61 , 2F065JJ02 , 2F065JJ25 , 2F065MM23 , 2F065PP11 , 2F065QQ08 , 2F065QQ13 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065RR08 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051AB03 , 2G051BA20 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CD03 , 2G051DA01 , 2G051DA07 , 2G051EA08 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051EB02 , 2G051EC02 , 2G051EC03 , 2G051ED07 , 2H095BD03 , 2H095BD28 , 2H095BD29 , 5B057AA03 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CA16 , 5B057CC02 , 5B057DA01 , 5B057DA07 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC16 , 5L096AA06 , 5L096BA03 , 5L096CA08 , 5L096FA06 , 5L096FA69 , 5L096GA10 , 5L096HA07

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平1-282405
パターン検査装置及びこれを用いた露光装置制御システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-252896 出願人：ソニー株式会社
特開平3-160306

審査官引用 (1件)

特開平1-282405

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