特許
J-GLOBAL ID:200903095276315273
しみ部位亢進遺伝子群を指標とした皮膚しみ形成予知方法、皮膚しみ形成抑制剤のスクリーニング方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 渡辺 陽一
, 西山 雅也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-343549
公開番号(公開出願番号):特開2005-106745
出願日: 2003年10月01日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】 皮膚しみ形成を予知するための皮膚検査方法の提供。【解決手段】 本発明は、皮膚しみ形成を予知するための皮膚検査方法を提供する。この方法は、表皮中のMCP-2遺伝子、又はマウスAK012157遺伝子、ヒトFLJ21763遺伝子もしくはラットS74257遺伝子に対し高ストリンジェント条件下でハイブリダイゼーション可能なポリヌクレオチドの発現が正常な表皮中の発現に比べて亢進している場合、しみ形成のし易い皮膚であると判断することを特徴とする。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
皮膚しみ形成を予知するための皮膚検査方法であって、表皮中のMCP2(Monocyte Chemoattracting Protein 2:単球化学誘引タンパク質-2)の発現が正常な表皮中の発現に比べて亢進している場合、しみ形成し易い皮膚であると判断することを特徴とする方法。
IPC (10件):
G01N33/53
, A61B5/107
, A61K7/00
, A61K45/00
, A61P17/00
, C12N15/09
, C12Q1/68
, G01N33/15
, G01N33/50
, G01N33/566
FI (12件):
G01N33/53 D
, G01N33/53 M
, A61K7/00 A
, A61K45/00
, A61P17/00
, C12Q1/68 A
, G01N33/15 Z
, G01N33/50 Q
, G01N33/50 Z
, G01N33/566
, A61B5/10 300Q
, C12N15/00 A
Fターム (40件):
2G045AA35
, 2G045AA40
, 2G045BA11
, 2G045BB50
, 2G045CB09
, 2G045DA13
, 2G045DA36
, 2G045FB02
, 2G045FB03
, 4B024AA01
, 4B024CA03
, 4B024CA04
, 4B024CA09
, 4B024DA02
, 4B024HA14
, 4B024HA19
, 4B063QA19
, 4B063QQ43
, 4B063QQ52
, 4B063QR32
, 4B063QR55
, 4B063QR62
, 4B063QS25
, 4B063QS34
, 4C038VA04
, 4C038VB22
, 4C038VC20
, 4C083AA011
, 4C083CC01
, 4C083CC02
, 4C083EE11
, 4C083EE13
, 4C084AA17
, 4C084MA01
, 4C084NA14
, 4C084ZA892
, 4C086AA01
, 4C086BC50
, 4C086NA14
, 4C086ZA89
引用特許: