特許
J-GLOBAL ID：200903095286328152
基板洗浄装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-002476
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199844
出願日： 1997年01月10日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：
【要約】【課題】 洗浄部材を特定の材料で構成することにより、押圧管理が容易で、かつ、洗浄部材の取り扱いが容易な基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 基板に洗浄液を供給しつつ洗浄具を回転させて基板を洗浄する基板洗浄装置において、洗浄具41の基板側に向けられた洗浄部材41cを1mm程度の厚さを有する多孔質ゴムで構成する。多孔質ゴムとしては、ポリウレタンゴムを採用する。ポリウレタンゴムは、洗浄液を含んでもほとんど膨潤しないので洗浄具41を基板に当接させると、予め設定した押圧で確実に当接させることができる。
請求項（抜粋）：
基板に洗浄液を供給しつつ洗浄具により基板を洗浄する基板洗浄装置において、前記洗浄具の前記基板側に向けられた洗浄部材を多孔質ゴムで構成したことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 1/00
H01L 21/304 341 B
, B08B 1/00
