特許

J-GLOBAL ID：200903095290757947

光学素子成形用型の製造方法

発明者： 平林 敬二 ,  大森 正樹
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-239457
公開番号（公開出願番号）：特開平11-079759
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1999年03月23日
要約：

【要約】【課題】 光学素子成形用型の外周部の硬質炭素膜の劣化を防止し、耐久性の高い光学素子成形用型の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも成形面に硬質炭素膜を形成する光学素子成形用型の製造方法において、該成形面外周部近傍の硬質炭素膜の膜厚が該成形面中心部より厚くなるように硬質炭素膜を形成することによる光学素子成形用型の製造方法。

請求項（抜粋）：

少なくとも成形面に硬質炭素膜を形成する光学素子成形用型の製造方法において、該成形面外周部近傍の硬質炭素膜の膜厚が該成形面中心部より厚くなるように硬質炭素膜を形成することを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。

IPC (4件)：

C03B 11/00 ,  C03B 11/08 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/04

FI (4件)：

C03B 11/00 N ,  C03B 11/08 ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 5/04 Z