特許
J-GLOBAL ID：200903095291493226
ステージ装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-149568
公開番号（公開出願番号）：特開2004-356222
出願日： 2003年05月27日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：
【課題】質量体の実装抵抗の影響を受けないようにステージの移動によって発生する並進方向及び水平軸まわりの偏荷重力をキャンセルしつつ、垂直軸まわりの反力を低減する。【解決手段】基準面1aを有するステージ定盤1と、基準面1aに沿って移動可能なステージ2と、ステージ定盤1又はその構造物に対して所定可動範囲内で移動可能な質量体4,14と、ステージ2の移動によって発生する並進方向及び水平軸まわりの偏荷重力をキャンセルし、垂直軸まわりの回転反力を低減するように、質量体4,14を駆動制御する制御部とを備える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基準面を有する基台と、
前記基準面に沿って移動可能なステージと、
前記基台又はその構造物に対して所定可動範囲内で移動可能な質量体と、
前記ステージの移動によって発生する並進方向及び水平軸まわりの偏荷重力をキャンセルし、垂直軸まわりの回転反力を低減するように、前記質量体を駆動制御する制御部とを具備することを特徴とするステージ装置。
IPC (3件)：
H01L21/027
, G03F7/22
, G03F9/00
H01L21/30 503A
, G03F7/22 H
, G03F9/00 H
