特許
J-GLOBAL ID:200903095293398859

レチクル及び該レチクルを用いた露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-083568
公開番号(公開出願番号):特開平10-282639
出願日: 1997年04月02日
公開日(公表日): 1998年10月23日
要約:
【要約】【課題】 レチクルのレチクルホルダー面内での位置ズレを防止することにより半導体素子製造の歩留りを向上させる。【解決手段】 露光装置で使用されるレチクルにおいて、パターンが描画された面、該面に対向する面、または側面のうちの少なくとも1つの面に、少なくとも1つの切り欠きを設ける。露光装置にピン等の保持手段を設け、該保持手段によって上記切り欠きを介して、該レチクルを露光装置に保持する。
請求項(抜粋):
パターンが描画されたレチクルであって、該パターンが描画された面、該面に対向する面、または側面のうちの少なくとも1つの面に、少なくとも1つの切り欠きを有することを特徴とするレチクル。
IPC (3件):
G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 1/14 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 D

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