特許

J-GLOBAL ID：200903095293803559

マスクフィルタの設計方法、マスクフィルタ、及び露光装置

発明者： 吉田 幸司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-199836
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021750
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 対象領域の各位置を所望の照明開口数で照明する。【解決手段】 マスクフィルタ(3)の照明光入射面の各位置に応じた照明光の強度分布を求め、対象領域上における所望の照明開口数を設定した後、照明光入射面の各位置における照明光の強度分布に基づいて、対象領域における前記複数の照明パラメータの分布が前記目標分布値と所定の精度で一致するマスクフィルタ(3)の透過率分布を算出する。こうして算出された透過率分布のマスクフィルタ(3)を使用した照明系(10)から射出される照明光で対象領域を照明する。

請求項（抜粋）：

光源から射出された照明光が対象領域に照射される前に経由するマスクフィルタの設計方法であって、該マスクフィルタの照明光入射面の各位置に応じた前記照明光の強度分布を求める第1工程と;前記対象領域上の各位置に到達する前記照明光が経由する前記マスクフィルタの各位置における透過率によって定まる、前記対象領域における第1方向に関する前記照明光の入射角の広がり度に応じた第1照明開口数及び前記第1方向と異なる第2方向に関する前記照明光の入射角の広がり度に応じた第2照明開口数を少なくとも含む複数の照明パラメータの目標分布を設定する第2工程と;前記マスクフィルタの照明光入射面の各位置における前記照明光の強度分布に基づいて、前記対象領域における前記複数の照明パラメータの分布が前記目標分布値と所定の精度で一致する前記マスクフィルタの透過率分布を算出する第3工程とを含むマスクフィルタの設計方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/00 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  G02B 5/00 A ,  G03F 7/20 521

Fターム (16件)：

2H042AA06 ,  2H042AA07 ,  2H042AA21 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA02 ,  5F046CA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB08 ,  5F046CB13 ,  5F046CB23 ,  5F046CB24 ,  5F046DA02 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05