特許
J-GLOBAL ID：200903095302959150
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-071692
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275344
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】 複数のハンドラ室の全てを真空を基本とすることなく、それに接続される処理室に適した雰囲気にすることにより、マルチチャンバ型基板処理装置の適用範囲の拡大に対応できるようにする。【構成】 処理室9〜11,12が接続された複数のハンドラ室4,5を備え、この各ハンドラ室4,5を介して各処理室9〜12に対する基板の出入れを行うようにした基板処理装置において、前記ハンドラ室4,5間をロードロック機能を備えた接続室20で連結したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
処理室が接続された複数のハンドラ室を備え、この各ハンドラ室を介して各処理室に対する基板の出入れを行うようにした基板処理装置において、前記ハンドラ室間をロードロック機能を備えた接続室で連結したことを特徴とする基板処理装置。
引用特許：
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