特許
J-GLOBAL ID:200903095302980205
光輝化製品の製造方法及びスパッタリング装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
恩田 博宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-150296
公開番号(公開出願番号):特開平11-343568
出願日: 1998年05月29日
公開日(公表日): 1999年12月14日
要約:
【要約】【課題】複数の面を有してなる基材上に金属薄膜層の形成された光輝化製品において、金属薄膜層の厚さの均一化を向上させて、その金属光沢のばらつきを抑制することのできる光輝化製品の製造方法及びスパッタリング装置を提供する。【解決手段】平坦部及び湾曲部を有してなる基材上に、ベースコート層13を形成し、その上から濃度分布設定手段を備えたスパッタリング装置21で金属薄膜層を形成する。スパッタリング装置21は、真空槽22、ターゲット23、アノード24及びガス導入管28等を有する。そして、ガス導入口29から真空槽22内へプロセスガスが導入されてプラズマ状態となる。その後、ターゲット24表面にプラズマ中のアルゴンイオンが衝突してクロム原子がはじき飛ばされ、ベースコート層13上には金属薄膜層の厚さが略均一となるように形成される。
請求項(抜粋):
複数の面を有してなる基材上に、スパッタリング装置を用いて金属薄膜層を形成する光輝化製品の製造方法であって、前記各面に形成される前記金属薄膜層の厚さを略均一とするために、プロセスガスの濃度分布を変化させることを特徴とする光輝化製品の製造方法。
IPC (4件):
C23C 14/34
, B32B 15/08
, C08J 7/00 307
, C08J 7/06
FI (4件):
C23C 14/34 M
, B32B 15/08 K
, C08J 7/00 307
, C08J 7/06 Z
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭63-223172
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薄膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-208032
出願人:花王株式会社
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軟質光輝化製品
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-147251
出願人:豊田合成株式会社
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