特許

J-GLOBAL ID：200903095307041894

プラズマ処理装置

発明者： 渡辺 成一 ,  古瀬 宗雄 ,  白米 茂
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-046821
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263186
出願日： 1994年03月17日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：

【要約】【構成】マイクロ波を利用したプラズマ処理装置において、導波管5内のマイクロ波が伝送される方向と垂直な断面全部あるいは該断面の一部に、比誘電率εrが1より大きい誘電体9を設けるよう構成した。【効果】誘電体内でのマイクロ波の波長は空気中のマイクロ波の波長の1/√εr倍となるので、マイクロ波の伝送部を小型化することが可能になった。

請求項（抜粋）：

マイクロ波を利用したプラズマ発生装置と減圧可能な処理室とガス供給装置と真空排気装置より成るプラズマ処理装置において、導波管内のマイクロ波が伝送される方向と垂直な断面全部あるいは該断面の一部に、比導電率が1より大きい誘電体を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H05H 1/46 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01P 7/06 ,  H01Q 13/10

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/31 C