特許
J-GLOBAL ID:200903095311745480

水素分離膜およびこれを用いた水素製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 八田 幹雄 ,  野上 敦 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-313177
公開番号(公開出願番号):特開2004-148138
出願日: 2002年10月28日
公開日(公表日): 2004年05月27日
要約:
【課題】分離膜において生じるピンホールの数が少なく、水素ガス中へのCOの混入量が少ない水素分離膜を提供する。【解決手段】支持体と、前記支持体の少なくとも一の面の表面に配置されてなる、CO変成触媒を含む触媒部と、前記触媒部が配置されてなる一の面上に形成されてなる、水素を選択的に通過させる分離膜とを有する水素分離膜によって、上記課題は解決される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
支持体と、 前記支持体の少なくとも一の面の表面に配置されてなる、CO変成触媒を含む触媒部と、 前記触媒部が配置されてなる一の面上に形成されてなる、水素を選択的に通過させる分離膜と、 を有する水素分離膜。
IPC (6件):
B01D71/02 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  C01B3/38 ,  C01B3/48 ,  C01B3/58
FI (6件):
B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  C01B3/38 ,  C01B3/48 ,  C01B3/58
Fターム (27件):
4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MC02 ,  4D006MC03 ,  4D006NA31 ,  4D006NA45 ,  4D006PA02 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB19 ,  4G140EB33 ,  4G140EB35 ,  4G140EB37 ,  4G140EB42 ,  4G140EB46 ,  4G140FA02 ,  4G140FA04 ,  4G140FB04 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FC07 ,  4G140FE01 ,  4G140FE06

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