特許
J-GLOBAL ID:200903095311745480
水素分離膜およびこれを用いた水素製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
八田 幹雄
, 野上 敦
, 奈良 泰男
, 齋藤 悦子
, 宇谷 勝幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-313177
公開番号(公開出願番号):特開2004-148138
出願日: 2002年10月28日
公開日(公表日): 2004年05月27日
要約:
【課題】分離膜において生じるピンホールの数が少なく、水素ガス中へのCOの混入量が少ない水素分離膜を提供する。【解決手段】支持体と、前記支持体の少なくとも一の面の表面に配置されてなる、CO変成触媒を含む触媒部と、前記触媒部が配置されてなる一の面上に形成されてなる、水素を選択的に通過させる分離膜とを有する水素分離膜によって、上記課題は解決される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
支持体と、
前記支持体の少なくとも一の面の表面に配置されてなる、CO変成触媒を含む触媒部と、
前記触媒部が配置されてなる一の面上に形成されてなる、水素を選択的に通過させる分離膜と、
を有する水素分離膜。
IPC (6件):
B01D71/02
, B01D53/22
, B01D69/10
, C01B3/38
, C01B3/48
, C01B3/58
FI (6件):
B01D71/02 500
, B01D53/22
, B01D69/10
, C01B3/38
, C01B3/48
, C01B3/58
Fターム (27件):
4D006GA41
, 4D006MA03
, 4D006MA09
, 4D006MA31
, 4D006MC02
, 4D006MC03
, 4D006NA31
, 4D006NA45
, 4D006PA02
, 4D006PB18
, 4D006PB66
, 4G140EA03
, 4G140EA06
, 4G140EB19
, 4G140EB33
, 4G140EB35
, 4G140EB37
, 4G140EB42
, 4G140EB46
, 4G140FA02
, 4G140FA04
, 4G140FB04
, 4G140FB09
, 4G140FC01
, 4G140FC07
, 4G140FE01
, 4G140FE06
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