特許
J-GLOBAL ID:200903095316383285
III族窒化物系化合物半導体発光素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小西 富雅 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-398452
公開番号(公開出願番号):特開2003-197961
出願日: 2001年12月27日
公開日(公表日): 2003年07月11日
要約:
【要約】【課題】 基板表面の凹凸面に簡易にかつ結晶性良くIII族窒化物系化合物半導体層を成長させる。【解決手段】 基板表面の上にIII族窒化物系化合物半導体で形成されてその表面がテクスチャー構造、断面台形状、若しくはピット状であるバッファ層を形成し、該バッファ層の上にIII族窒化物系化合物半導体発光素子層を形成する。ここで各工程において前記基板の温度は実質的に一定温度に保たれる。
請求項(抜粋):
その表面を凹凸面とした基板と、該凹凸面の上に形成されたバッファ層であって、III族窒化物系化合物半導体で形成されてその表面がテクスチャー構造、断面台形状、若しくはピット状であるバッファ層と、該バッファ層の上に形成されるIII族窒化物系化合物半導体層と、を備えてなる、III族窒化物系化合物半導体発光素子。
Fターム (9件):
5F041AA03
, 5F041AA40
, 5F041CA04
, 5F041CA40
, 5F041CA65
, 5F041CA66
, 5F041CA74
, 5F041CA75
, 5F041CA77
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