特許
J-GLOBAL ID：200903095317950000
パターン欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-296447
公開番号（公開出願番号）：特開平8-152309
出願日： 1994年11月30日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：
【要約】【目的】 標準パターン画像から抽出された複数の参照画像と被検査画像とを比較してパターン欠陥検査を行う装置において、欠陥の種類にかかわらず、欠陥検出の精度を一定にすること。【構成】 拡張区画EAij内の参照画像の集合{Ri+m,j+n}の内、被検査区画の画像Iijと参照画像Ri+m,j+nのそれぞれのエッジ画像feおよびgeが、実質的に整合しているような参照画像Ri+m,j+nについての比較結果に基づいて、最終的なパターン欠陥検査結果を得る。また、残銅などを含み、それ以外には画素データfをほとんど含まない被検査区画の画像Iijについては、それに対応する参照画像Ri+m,j+nにおけるエッジ画素の数が基準値以下である参照画像Ri+m,j+nについての比較結果に基づいて、最終的なパターン欠陥検査結果を得る。
請求項（抜粋）：
被検査画像と標準パターン画像とを前記被検査画像の被検査区画ごとに比較することによって、前記被検査画像に含まれるパターン欠陥を検出する装置であって、(a)前記標準パターン画像から、前記被検査区画に相当する部分と、当該部分を画素単位で2次元的に偏位させた部分とを抽出することによって、前記被検査区画の画像と比較すべき複数の参照画像を得る参照画像抽出手段と、(b)前記複数の参照画像のそれぞれにおけるパターンのエッジを検出して複数の参照エッジ画像を求める参照エッジ画像抽出手段と、(c)前記被検査区画の画像におけるパターンのエッジを検出して被検査エッジ画像を求める被検査エッジ画像抽出手段と、(d)前記複数の参照エッジ画像のそれぞれと前記被検査エッジ画像との一致性を判定するエッジ一致性判定手段と、(e)前記複数の参照画像のうち前記一致性の判定結果に応じて選択された1または複数の特定の参照画像と前記被検査区画の画像との比較結果に応答してパターン欠陥の検査結果信号を発生する検査結果信号発生手段と、を備えることを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01B 11/24
, G01N 21/88
, G06T 7/00
G06F 15/62 405 A
, G06F 15/70 330 N
