プラズマ装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：守谷一雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-049790
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251390
出願日： 1992年03月06日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：

【要約】【目的】被処理体の損傷が少なく、高密度プラズマを発生することができる無磁場のプラズマ装置を提供する。【構成】プラズマ発生源としてスローウェーブ構造のヘリカル共振器1を用い、このヘリカル共振器により発生したプラズマから1対の多孔性電極によって電子を加速して引出し、被処理体Wが載置された反応室3に送る。反応室には反応性ガスが供給されており、多孔性電極6、6’によって引出された電子により反応性ガスの高密度プラズマを発生させ被処理体Wを処理する。【効果】ヘリカル共振器は無磁場で、効率よく高密度プラズマを発生することができるので、被処理体の損傷が少なく異方性の強いプラズマ処理を行なうことができる。また、磁場を不要とするので、装置全体として小型にすることができる。

請求項（抜粋）：

ヘリカル共振器と、該ヘリカル共振器により発生したプラズマから電子を引出すための電子加速手段と、反応性ガスが供給されるとともに前記電子加速手段によって加速された電子により反応性ガスのプラズマを発生させ被処理体を処理するための反応室とを備えたことを特徴とするプラズマ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/302 , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-058445
特開平3-131024
特開平1-143328

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