特許

J-GLOBAL ID：200903095330641378

微小開口の形成方法、微小開口を含んでなるメンブレンと該メンブレンによるプローブ、及び該プローブによる表面観察装置、露光装置、情報処理装置

発明者： 山崎 剛生 ,  島田 康弘 ,  池田 勉 ,  黒田 亮 ,  八木 隆行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-264932
公開番号（公開出願番号）：特開平11-086364
出願日： 1997年09月11日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】本発明は、微小な開口を簡便な方法で再現性良く形成でき、また、基板上に集積化が容易で、複数の微小開口を形成したときに開口径のばらつきが小さい、微小開口の形成方法と微小開口を含んでなるメンブレンと該メンブレンによるプローブ、及び該プローブによる表面観察装置、露光装置、情報処理装置を提供することを目的としている。【解決手段】本発明の微小開口の形成方法と微小開口を含んでなるメンブレンは、基板上の光透過性のエッチングストップ層の表面に酸化により光透過性が上昇する材料からなる遮光性の薄膜層を形成すると共に、該薄膜層の一部を酸化することによって微小開口となる微小光透過部を形成し、前記基板上の前記微小光透過部を含む基板の裏面からエッチングして、前記エッチングストップ層を用いて前記微小光透過部を含むメンブレンを形成したことを特徴とするものであり、また、本発明はこれらによってプローブを構成し、あるいは該プローブを用いて表面観察装置、露光装置、情報処理装置を構成したことを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

微小開口の形成方法であって、(a)基板表面に光透過性のエッチングストップ層を形成する工程と、(b)前記エッチングストップ層表面に酸化により光透過性が上昇する材料からなる遮光性の薄膜層を形成する工程と、(c)前記薄膜層の一部を酸化することにより、微小開口となる光透過部を形成する工程と、(d)前記基板の一部を裏面からエッチングして、該エッチングを前記エッチングストップ層を用いて停止することにより、前記光透過部を含むメンブレンを形成する工程と、を少なくとも有することを特徴とする微小開口の形成方法。

IPC (3件)：

G11B 9/00 ,  G01N 37/00 ,  G02B 21/00

FI (3件)：

G11B 9/00 ,  G01N 37/00 E ,  G02B 21/00