特許

J-GLOBAL ID：200903095331213159

ダイオキシン含有ガスの処理方法及び装置

発明者： 安井 基博
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-081399
公開番号（公開出願番号）：特開平11-276856
出願日： 1998年03月27日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：

【要約】【課題】 ダイオキシン含有ガスを吸着処理してダイオキシン除去ガスとすると共に吸着されたダイオキシンとを吸着剤と酸化分解してダイオキシン含有ガスを連続的に処理する。【解決手段】 吸着処理を炭素質の吸着剤を用いる循環流動床式吸着技術によって行い、ダイオキシンを吸着・捕集した吸着剤を酸化分解する。

請求項（抜粋）：

ダイオキシン含有ガスを粉体状の活性炭またはコークスから成る吸着剤を投入された流動床式吸着塔の下部に導入し、吸着剤を流動化させると共にこれが含有するダイオキシンを吸着剤に吸着させつつ上昇させ、次いで上記流動床式吸着塔の上部よりダイオキシンを吸着・除去されたガスとして分離・導出し、さらに気-固分離手段によって同伴する固型分を除去・分離してダイオキシン除去ガスとし、上記のようにして形成されたダイオキシンを吸着した吸着剤の1部を補給・供給される吸着剤とバランスさせつつ取出し、取出されたダイオキシンを吸着した吸着剤を燃焼炉または水熱酸化分解反応装置に導入して吸着されたダイオキシンと吸着剤の両者を酸化分解するダイオキシン含有ガスの連続的処理方法。

IPC (5件)：

B01D 53/70 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/81

FI (4件)：

B01D 53/34 134 E ,  A62D 3/00 ZAB ,  B01D 53/12 ,  B01D 53/34 A