特許

J-GLOBAL ID：200903095366318018

染色パターン形成法

発明者： 津島 宏 ,  住吉 岩夫 ,  横山 正明
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-004539
公開番号（公開出願番号）：特開平5-188215
出願日： 1992年01月14日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 工程が単純で低コスト製造可能な、優れたパターン精細度のRGBカラーフィルタを得るための染色パターン形成法を提供する。【構成】 a)基板上に設けた式(I)[R1、R2、R3、R4は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香族炭化水素基からそれぞれ独立して選択した基、mとnは整数である。]のポリシラン層を選択的に紫外線露光して染色パターンの潜像を形成する工程と、潜像が形成されたポリシラン層を1種類以上の塩基性染料を含む染浴中に浸漬する工程とを包含するパターン染色工程;およびb)ポリシラン層に異なる染色パターンの潜像を形成することと異なる塩基性染料を用いること以外は上記パターン染色工程と同様に1回以上行われるパターン染色工程;を包含するポリシラン層への多色染色パターン形成方法。

請求項（抜粋）：

a)基板上に設けられた式【化1】[式中、R1、R2、R3およびR4は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基および芳香族炭化水素残基からなる群からそれぞれ独立して選択される基であり、mおよびnは整数である。]で示される構造のポリシランからなるポリシラン層を選択的に紫外線露光して染色パターンの潜像を形成する工程と、染色パターンの潜像が形成された該ポリシラン層を、少なくとも1種類の塩基性染料を含有する染浴中に浸漬する工程とを包含するパターン染色工程;およびb)該ポリシラン層に異なる染色パターンの潜像を形成すること、および異なる塩基性染料を用いること以外は該パターン染色工程と同様にして少なくとも1回行われるパターン染色工程;を包含するポリシラン層に多色染色パターンを形成する方法。

IPC (2件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505