特許
J-GLOBAL ID：200903095378316614
位相シフトマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-245058
公開番号（公開出願番号）：特開平10-090873
出願日： 1996年09月17日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】欠陥修復を短時間でかつ低コストで行うことを可能とする位相シフトマスクの製造方法を提供すること。【解決手段】透明基板11上に遮光体パターン又は半透明パターン12を形成する工程(a) 、(b) 、(c) と、前記遮光体パターン又は半透明パターン12の欠陥を検査する工程と、欠陥が検出された場合、検出された欠陥を修復する工程と、前記欠陥を修復した後、位相シフターパターンを形成して位相シフトマスクを得る工程(d) 、(e) 、(f) 、(g) と、得られた位相シフトマスクの欠陥を検査する工程と、欠陥が検出された場合、検出された欠陥を修復する工程と、を具備する位相シフトマスク10の製造方法。
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光体パターン又は半透明パターンを形成する工程と、前記遮光体パターン又は半透明パターンの欠陥を検査する工程と、欠陥が検出された場合、検出された欠陥を修復する工程と、前記欠陥を修復した後、位相シフターを形成して位相シフトマスクを得る工程と、得られた位相シフトマスクの欠陥を検査する工程と、欠陥が検出された場合、検出された欠陥を修復する工程と、を具備する位相シフトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 515 F
