特許

J-GLOBAL ID：200903095391431732

金属研磨方法

発明者： 島村 泰夫 ,  内田 剛 ,  上方 康雄 ,  寺崎 裕樹 ,  倉田 靖
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-304810
公開番号（公開出願番号）：特開2001-127017
出願日： 1999年10月27日
公開日（公表日）： 2001年05月11日
要約：

【要約】【課題】 高いCMP速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ-ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。【解決手段】 金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤及び水を含有する金属用研磨液を用い、この金属用研磨液を供給しながら基板上の金属膜を不織布を研磨布として研磨することを特徴とする金属研磨方法。

請求項（抜粋）：

金属の酸化剤、酸化金属溶解剤、保護膜形成剤及び水を含有する金属用研磨液を用い、この金属用研磨液を供給しながら基板上の金属膜を不織布を研磨布として研磨することを特徴とする金属研磨方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 13/00

FI (6件)：

H01L 21/304 622 C ,  H01L 21/304 622 F ,  H01L 21/304 622 X ,  B24B 37/00 H ,  B24B 37/00 C ,  C09K 13/00

Fターム (7件)：

3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17