特許
J-GLOBAL ID：200903095398409384
C4炭化水素混合物の分離方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-545808
公開番号（公開出願番号）：特表2003-524585
出願日： 1999年04月13日
公開日（公表日）： 2003年08月19日
要約：
【要約】N-メチル-2-ピロリジノン又はN-メチル-2-ピロリジノン(NMP)の水溶液を用いた抽出蒸留により、主に1,3-ブタジエン、ブテン、ブタン及びその他のC4炭化水素を含有するC4炭化水素混合物を少なくとも4つのフラクション:ほぼ1,3-ブタジエンからなるa)フラクション(a);b)ほぼブテンからなるフラクション(b);c)ほぼブタンからなるフラクション(c);及びd)ほぼ1,3-ブタジエン及びその他のC4炭化水素からなる1以上のフラクション(d)に分離する方法。
請求項（抜粋）：
主に1,3-ブタジエン、ブテン、ブタン及びその他のC4炭化水素を含有するC4炭化水素混合物を、N-メチル-2-ピロリジノン又はN-メチル-2-ピロリジノン(NMP)の水溶液を用いて抽出蒸留することにより少なくとも次の4つのフラクション:a) 主に1,3-ブタジエンからなるフラクション(a)、b) 主にブテンからなるフラクション(b)、c) 主にブタンからなるフラクション(c)及びd) 主に1,3-ブタジエンとその他のC4炭化水素からなる1以上のフラクション(d)に分離する方法において、1. ガス状のC4炭化水素混合物をまず抽出区域(I)中でNMPと接触させ、その際、1,3-ブタジエン及びその他のC4炭化水素をNMPによりほぼ完全に吸収させるが、ブテン及びブタンは主に気相中に留まり;2. 吸収されていないブテン及びブタン(ガス流bc)及び工程1で形成された抽出溶液(抽出溶液ad)を別々に抽出区域(I)から取り出し;3. 抽出溶液(ad)を、抽出区域(I)よりも低い圧力及び/又は高い温度の脱着区域(I)中へ移送し、そこで抽出溶液(ad)から1,3-ブタジエンを脱着させ、その際、その他のC4炭化水素の主要部分は液相中に残留し;4. 工程3中で形成された抽出溶液(抽出溶液d)及び脱着された1,3-ブタジエン(フラクションa)を別々に脱着区域(I)から取り出し、場合によりフラクション(a)の一部を抽出区域(I)中へ返送し;5. 抽出溶液(d)を、脱着区域(I)よりも低い圧力及び/又は高い温度を有しかつ圧力勾配及び/又は温度勾配を有する第2の脱着区域(II)中へ移送し、そこで抽出溶液(d)からなおその中に残留する1,3-ブタジエン及びその他のC4炭化水素を少なくとも2つの別個のフラクション(d)として分画脱着させ、その際、フラクション(フラクションd)の少なくとも1つではその他のC4炭化水素の割合が、全C4炭化水素の割合に対して抽出溶液(d)におけるよりも少なくとも10倍高く、フラクション(フラクションdR)の少なくとも1つではその他のC4炭化水素の割合が、全C4炭化水素の割合に対してフラクション(d)におけるよりも相応して低く、6. 脱着区域(II)中で形成された、主にC4炭化水素不含のNMP及びフラクション(d)及び(dR)を別個に脱着区域(II)から取り出し、1以上のフラクション(dR)を脱着区域(I)へ返送し、7. ガス流(bc)をまず工程6中で形成されたNMPと抽出区域(II)中で接触させ、その際、ブテンをNMPによりほぼ完全に吸収させるが、ブタンは主に気相中に留まり;8. 吸収されないブタン(フラクションc)及び工程1で形成された抽出溶液(抽出溶液b)を抽出区域(II)から取り出し;9. 抽出溶液(b)を、抽出区域(II)よりも低い圧力及び/又は高い温度を有する脱着区域(III)中へ移送し、そこで抽出溶液(b)からブテンを脱着させ;10. 工程9で形成された、ほぼC4炭化水素不含のNMP及び脱着されたブテン(フラクションb)を脱着区域(III)から取り出し;11. 工程9で形成されたNMPを抽出区域の1つへ返送する、C4炭化水素混合物の分離方法。
IPC (4件)：
C07C 7/08
, C07C 9/10
, C07C 11/08
, C07C 11/16
C07C 7/08
, C07C 9/10
, C07C 11/08
, C07C 11/16
4H006AA02
, 4H006AD13
, 4H006BB24
, 4H006BB31
, 4H006BD60
