特許
J-GLOBAL ID：200903095398675467
水素製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-254130
公開番号（公開出願番号）：特開平7-109592
出願日： 1993年10月12日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：
【要約】【目的】 本発明はYSZに比ベてイオン伝導率が高く、さらに室温と動作温度の間での構造変態がなく、熱サイクルに対して機械的強度の強い固体電解質を用いた低温で動作する水素製造装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明の水素製造装置は、ZrO2,Sc2O3及びAl2O3の三成分から成る組成の酸素イオン導伝体を固体電解質として用いたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
固体電解質を酸素電極及び水素電極によって挟持してなる水素製造装置において、前記固体電解質がZrO2,Sc2O3及びAl2O3の3成分からなる組成を有する酸素イオン導伝体であることを特徴とする水素製造装置。
IPC (2件)：
C25B 9/00 301
, C01B 3/02
