特許
J-GLOBAL ID:200903095414577233

X線発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-266130
公開番号(公開出願番号):特開2000-098094
出願日: 1998年09月21日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 赤外域、可視域から紫外域にわたる広範囲の光を著しく減衰させることが可能であり、使用波長のX線を極力減衰させずに取り出すことができるX線発生装置を提供すること。【解決手段】 放射光リングから輻射されたX線を取り出して利用する、或いは減圧された真空容器100内に配置された標的物質105にパルスレーザー光101を照射して該標的物質105をプラズマ化し、該プラズマ106から輻射されたX線111を取り出して利用するX線発生装置において、微小開口または微小開口群を有する光学部材109を、該微小開口または該微小開口群が前記放射光リングまたはプラズマから輻射された使用X線の光路中(真空容器100内)に位置するように設置して、該光学部材109により使用X線111を取り出すことを特徴とするX線発生装置。
請求項(抜粋):
放射光リングから輻射されたX線を取り出して利用する、或いは減圧された真空容器内に配置された標的物質にパルスレーザー光を照射して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマから輻射されたX線を取り出して利用するX線発生装置において、微小開口または微小開口群を有する光学部材を、該微小開口または該微小開口群が前記放射光リングまたはプラズマから輻射された使用X線の光路中(真空容器内)に位置するように設置して、該光学部材により使用X線を取り出すことを特徴とするX線発生装置。
IPC (2件):
G21K 3/00 ,  H05G 2/00
FI (2件):
G21K 3/00 Z ,  H05G 1/00 K
Fターム (6件):
4C092AA06 ,  4C092AA07 ,  4C092AA14 ,  4C092AB21 ,  4C092AC08 ,  4C092AC09
引用特許:
審査官引用 (3件)

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