特許
J-GLOBAL ID:200903095430268909

ビーム回転機能付ホモジナイザ装置及びこれを用いたレーザ加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 治部 卓 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-156298
公開番号(公開出願番号):特開平11-352419
出願日: 1998年06月04日
公開日(公表日): 1999年12月24日
要約:
【要約】【課題】 ビームを任意の角度回転した状態で均一化し得るビーム回転機能付ホモジナイザ装置、及びこれを用いたレーザ加工装置を提供すること。【解決手段】 入射ビームB0に対して実質上平行な軸線C1のまわりでθ回転された際、出射ビームB1をビーム軸のまわりで2θ回転させるビーム回転光学素子10aと、このビーム回転光学素子10aからの出射ビームB1が入射されるホモジナイザ素子11と、ビーム回転光学素子9がθ回転された際ホモジナイザ素子11を該ホモジナイザ素子11への入射ビームB1のビーム軸C2のまわりで2θ回転させるホモジナイザ素子回転制御装置10bとを有する。
請求項(抜粋):
入射ビームに対して実質上平行な軸線のまわりでθ回転された際、出射ビームを該ビームのビーム軸のまわりで2θ回転させるビーム回転光学素子と、このビーム回転光学素子からの出射ビームが入射されるビームホモジナイザ素子と、ビーム回転光学素子がθ回転された際ホモジナイザ素子を該ホモジナイザ素子への入射ビームのビーム軸のまわりで2θ回転させるホモジナイザ素子回転手段とを有するビーム回転機能付ホモジナイザ装置。
IPC (3件):
G02B 26/00 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/268
FI (3件):
G02B 26/00 ,  H01L 21/20 ,  H01L 21/268 J

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